Nordamerika-Marktprognose für Fotolacke und Fotolackzusätze bis 2027 – Auswirkungen von Covid-19 und regionale Analyse nach Fotolacktyp (ArF-Immersionsfotolack, ArF-Trockenfotolack, KrF-Fotolack sowie G-Line- und I-Line-Fotolack), Fotolackzusatztyp (Anti- reflektierende Beschichtungen, Entferner, Entwickler und andere), Anwendung (Halbleiter und ICs, LCDs, Leiterplatten und andere) und Land

Markteinführung

Fotoresists sind lichtempfindliche Polymerharze, die hauptsächlich bei der Herstellung von Leiterplatten, Druckplatten und Flachbildschirmen verwendet werden -Panel-Flüssigkristallanzeigen, magnetische Aufzeichnungsköpfe und mikroelektromechanische Systeme (MEMS). Diese Komponenten dienen als Maskierungsmaterialien für die Übertragung von Bildern in ein darunter liegendes Substrat durch Ätzprozesse. Fotolackhilfsmittel sind Materialien wie Fotolackentferner, Antireflexbeschichtungen, Entwickler und Kantenentferner, die zusammen mit Fotolack verwendet werden. Die Fotolacke und Fotolackhilfsmittel werden in der Verdrahtungskonfiguration von mehrschichtigen Halbleitern verwendet, die bei der Herstellung von Computern, Laptops und Musikplayern verwendet werden , Telefone, Server und Haushaltsgeräte. Die Elektronikindustrie verzeichnet in Industrie- und Entwicklungsländern ein stetiges Wachstum. Die in diesem Bereich tätigen Unternehmen verwenden Fotolack und Fotolackzusatzstoffe in Produkten wie modernen Telefonen, Computersystemen und entsprechendem Zubehör, Fernsehgeräten und Heimunterhaltungsgeräten sowie elektronischen Steuerungs- und Überwachungsgeräten, die in vielen industriellen und wissenschaftlichen Bereichen Anwendung finden.

Marktüberblick und Dynamik

Der nordamerikanische Markt für Fotolacke und Fotolackzusätze wurde auf 666,7 US-Dollar geschätzt Im Jahr 2018 belief sich der Umsatz auf 1.128,5 Millionen US-Dollar und soll bis 2027 1.128,5 Millionen US-Dollar erreichen; Es wird erwartet, dass es im Prognosezeitraum mit einer CAGR von 6,0 % wächst. Zu den Faktoren, die das Marktwachstum vorantreiben, gehören das Wachstum in der Halbleiterindustrie und die steigende Nachfrage nach Fotolacken und Fotolackzusätzen für verschiedene Anwendungen. Allerdings dürften sich die Vorschriften verschiedener Behörden zur Verwendung von Rohstoffen in Fotolack-Zusatzprodukten negativ auf das Marktwachstum auswirken.

Wichtige Marktsegmente

Nach Fotoresisttyp hatte das ArF-Immersionsfotoresistsegment im Jahr 2018 den größten Anteil am nordamerikanischen Fotoresist- und Fotoresistzusatzmarkt. Bei den Fotoresistzusatzprodukten hielt sich das Segment der Antireflexbeschichtungen den größten Anteil am Markt für Fotolacke und Fotolackzusatzstoffe im Jahr 2018. In Bezug auf die Anwendung waren im Jahr 2018 die Halbleiter- und Fotolackzusatzstoffe im Markt. Das IC-Segment hielt den größten Marktanteil am Fotoresist- und Fotoresist-Zusatzmarkt in Nordamerika.

Wichtige Quellen und Unternehmen aufgeführt

Einige wichtige primäre und sekundäre Quellen, auf die bei der Erstellung des Nordamerika-Marktberichts für Fotolacke und Fotolackzusätze verwiesen wurde, sind MERCK KGaA, Sumitomo Chemical Co., Ltd., TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Micro Resist Technology GmbH, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., DJ Microlaminates, Inc., DuPont de Nemours, Inc., Fujifilm Corporation und JSR Corporation.< /p>

Auswirkungen der COVID-19-Pandemie auf den Markt für Fotolacke und Fotolackzusätze

Die USA verzeichneten im Vergleich zu Kanada und Mexiko die höchste Anzahl bestätigter Fälle von Covid-19. Dies dürfte Auswirkungen auf die Chemieindustrie in der Region haben; Aufgrund des COVID-19-Ausbruchs wird die Lieferkette wahrscheinlich beeinträchtigt. Darüber hinaus werden sich auch die gesamten Herstellungsprozesse sowie Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten auf das Marktwachstum auswirken.

Gründe für den Kauf des Berichts

• Um die Marktlandschaft für Fotolacke und Fotolackzusätze zu verstehen und Marktsegmente zu identifizieren, die am wahrscheinlichsten eine starke Rendite garantieren
• Um an der Spitze zu bleiben, indem Sie die sich ständig verändernde Wettbewerbslandschaft für den Markt für Fotolacke und Fotolackzusätze verstehen
• Um M&A und Partnerschaften effizient zu planen Geschäfte auf dem Markt für Fotolacke und Fotolackzusätze durch Identifizierung von Marktsegmenten mit den vielversprechendsten wahrscheinlichen Verkäufen.
• Um fundierte Geschäftsentscheidungen auf der Grundlage einer scharfsinnigen und umfassenden Analyse der Marktleistung verschiedener Segmente auf dem Markt für Fotolacke und Fotolackzusätze zu treffen
• Um eine Marktumsatzprognose für verschiedene Segmente von 2018 bis 2027 zu erhalten

NordamerikaFotoresist und Marktsegmentierung für Fotolackzusätze

Nach Fotolacktyp

• ArF-Immersion Fotolack
• ArF Trockenfotolack
• KrF Fotolack
• G- Line- und I-Line-Fotolack

Nach Fotolackzusatztyp

• Antireflexbeschichtungen
• Entferner
• Entwickler
Andere

Nach Anwendung

• Halbleiter und ICs
• LCDs
• Leiterplatten
• < span>Andere

Nach Land

• USA
• Kanada
• Mexiko

Unternehmensprofile

• MERCK KGaA
• Sumitomo Chemical Co. , Ltd.
• TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD
• Micro Resist Technology GmbH
• Shin-Etsu Chemical Co., Ltd
• DJ Microlaminates, Inc.
• DuPont de Nemours , Inc.
• Fujifilm Corporation

• JSR Corporation

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